Интерференционная холоэллипсометрия «in situ» прозрачного двумерного одноосного кристалла при нормальном отражении лазерного излучения

В работе представлены: а) метод интерференционной холоэллипсометрии in situ (эллипсометрия полного набора измеряемых параметров: модулей и фаз комплексных амплитудных коэффициентов отражения света с линейными p- и s-поляризациями) при нормальном отражении лазерного излучения от прозрачного двумерного одноосного кристалла с оптической осью в плоскости отражающей поверхности; б) реализующий предложенный метод холоэллипсометр на основе интерферометра Майкельсона с фазовой модуляцией лазерного излучения.

Interference Holoellipsometry "in situ" of a Transparent Two-Dimensional Uniaxial Crystal at Normal Angle Laser Radiation Reflection

The following issues are considered in the paper: a) method of the in situ interference holoellipsometry (ellipsometry with the complete set of measured parameters: modules and phases of complex amplitude reflection coefficients for linear p- and s-polarizations) of a transparent two-dimensional uniaxial crystal at normal reflection angle of the laser radiation under the condition that the crystal optical axis belongs to the reflecting surface; b) schematic of the holoellipsometer realizing the method and employing the Michelson interferometer with phase modulation of the radiation.