Нагрев электронов плазмы лазерным излучением в условиях параметрического резонанса в сильном магнитном поле

Рассмотрен процесс нагрева электронов плазмы необыкновенной лазерной волной на удвоенной верхнегибридной частоте в сильном магнитном поле. Показано, что в этом случае имеет место существенный нагрев даже при значительных расстройках относительно основного параметрического резонанса, что дает возможность снизить резонансную величину сильного магнитного поля. Исследование проведено с помощью численного моделирования по методу частиц в ячейке. Найдены минимальные значения амплитуд лазерного излучения, при которых может быть реализован параметрический нагрев такого типа.