The formation of Ti-O tetrahedra and band gap reduction in SiO2 via pulsed ion implantation

Авторы

Green R.J. ¹ , Hunt A. ¹ , Moewes A. ¹ , Zatsepin D.A. ^2, ³ , Kurmaev E.Z. ² , Gavrilov N.V. ⁴

Журнал

Номер выпуска

Язык

Английский

Страницы

103704

Статус

Опубликовано

Том

113

Год

2013

Организации

Цитировать

Статья

Kartashkin V.A., Abashidze A.Kh.

International Journal on Minority and Group Rights. Том 10. 2003. С. 203-220

Статья

Kovalchukova O.V., Strashnova S.B., Churakov A.V., Sergienko V.S., Abbas A.T.R.A., Kuznetsov D.N., Kobrakov K.I.

Russian Journal of Inorganic Chemistry. Том 58. 2013. С. 395-399

The formation of Ti-O tetrahedra and band gap reduction in SiO₂ via pulsed ion implantation