International Journal on Minority and Group Rights. Том 10. 2003. С. 203-220
В статье рассматриваются два основных метода выращивания эпитаксиальных слоев нитрида галлия. Разобраны этапы получения пленок из GaN, который является ключевым материалом для современной СВЧ электроники.