ЭПИТАКСИАЛЬНЫЕ ТЕХНОЛОГИИ ВЫРАЩИВАНИЯ GaN

В статье рассматриваются два основных метода выращивания эпитаксиальных слоев нитрида галлия. Разобраны этапы получения пленок из GaN, который является ключевым материалом для современной СВЧ электроники.

Язык
Русский
Страницы
20-21
Статус
Опубликовано
Год
2023
Организации
  • 1 Российский университет дружбы народов
Ключевые слова
GaN; МОС-гидридная эпитаксия; молекулярно-лучевая эпитаксия
Цитировать
Поделиться

Другие записи